マスク検査装置

• 1) 最先端短波長199nmレーザーを搭載
• 2) 60分以内の高速検査を実現
• 3) 実用感度を高める機能等の先端アプリケーションを搭載

マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版（フォトマスク）を高速に検査する装置です。
当社では、EUVリソグラフィーやナノインプリント技術への対応など、今後のリソグラフィー技術の動向を睨みながら、5nm世代以降のデバイスのためのマスク検査装置の開発も行っています。