開発ロードマップ

当社の主力製品である電子ビームマスク描画装置EBM-9500は、7nmノードのデバイス量産に対応したフォトマスクに、サブナノメートルオーダー(1ミクロンの1万分の1)の正確さでパターンを描画します。フォトマスクには、ウェハに転写される回路パターンの4倍の大きさのパターンが描画されますが、パターンが複雑であるため、転写される回路パターンの線幅の精度と同程度の精度が要求されます。

7nm世代のデバイスの量産が始まるのは、2017年~2018年と予想されていますが、フォトマスクの開発はそれに先立って開始されるため、マスク描画装置はさらに先行した開発が必要となります。

当社では、EUVリソグラフィーやナノインプリント技術への対応など、今後のリソグラフィー技術の動向を睨みながら、7nm世代以降のデバイスのための描画装置開発も行っています。

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