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可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS

7nm+/5nmノード対応

EB Mask Writer
EBM-9500PLUS

可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS

7nm+/5nmノードのマスク量産に対応した可変成型電子ビームマスク描画装置です。

特長

  • 1) 50kV加速電圧で、コントラストに優れた描画性
  • 2) ステージ可変速移動と高電流密度(1200A/cm2)による高いスループット
  • 3) 高いCOO( Cost of Ownership )を実現

仕様

仕様
マスクサイズ 6inch
位置精度 1.8nm(3σ)
寸法精度 1.3nm(3σ)
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