超精密機械制御技術

ナノメートルオーダーの超精密機械制御技術-究極の手ぶれ防止!?

電子ビームマスク描画装置では、平面内を移動可能なステージ上にフォトマスクが置かれ、連続的に移動させながら回路パターンを描画します。ステージはレーザ干渉計という精密なセンサーからの位置情報を用いて、フィードバック制御されます。

数十キロの重さがあるステージを移動させると、機械振動が発生します。機械振動には、機械的制御により抑制が可能な比較的低い周波数の振動と、機械的には追従が難しい高周波の振動があります。描画装置では、パターンの位置精度に悪影響を及ぼさないよう、両方の振動成分を抑制する必要があります。当社は最高レベルの超精密ステージと、最適な機械制御技術を開発・実用化し、比較的低い周波数の振動をサブナノメートルオーダーで抑制することを可能としました。また、機械が追従できないような高周波の振動をサブナノメートルオーダーで抑制するために、レーザ干渉計の信号を電子ビームの偏向制御機構にフィードバックして制御するビームトラッキング技術を開発して実用化しています。これらの制御を組み合わせることで、あたかも手ぶれ防止機能のように、電子ビームから見たステージの位置がサブナノメートルのレベルで止まっているように制御することが可能となっています。

ナノメートルオーダーの超精密機械制御技術-究極の手ぶれ防止!?
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