主要受賞歴

当社従業員受賞歴

年月日 名称 業績名 主催団体
2006年6月19日 平成18年度 全国発明表彰、経済産業大臣発明賞 電子線描画装置の近接効果補正技術の発明 (社)発明協会
2007年4月17日 平成19年度 文部科学大臣表彰・科学技術賞(開発部門)(旧科学技術功労者) 電子線マスク描画装置の近接効果補正技術の開発 文部科学省
2008年11月5日 平成20年度 関東地方発明表彰、発明奨励賞 「かぶり低減による電子ビーム描画の高精度化」 (社)発明協会東京支部
2013年2月 平成24年度 大河内記念生産特賞 「LSI原版製造用電子ビーム描画装置の開発と実用化」 (公財)大河内記念会

当社従業員による主な学術論文一覧

発表年 論文名称 発表先
2007年 High-Accuracy Proximity Effect Correction for Mask Writing Japanese Journal of Applied Physics,Vol.46A, p826
2007年 Global Critical Dimension Correction I.
Fogging Effect Correction
Japanese Journal of Applied Physics,Vol.46A, p3359
2007年 Global Critical Dimension Correction II Japanese Journal of Applied Physics,Vol.46A, p3368
2008年 Accurate correction of critical dimension errors appearing in LSI fabrication processes Journal of Micro/Nano Lithography, MEMS,and MOEMS Vol.7, 023006
2008年 High accuracy correction of critical dimension errors taking sequence of large-scale integrated circuits fabrication processes into account Journal of Micro/Nano Lithography, MEMS, and MOEMS Vol.7, 043008
2009年 High accuracy correction of critical dimension errors appearing in large-scale integrated circuits fabrication processes:pattern-based model Japanese Journal of Applied Physics,Vol.48, 046508
2009年 Proximity Effect Correction for Mask Writing Taking Resist Development Process into Account Japanese Journal of Applied Physics,Vol.48, 095004

当社従業員によるその他著作物など

発行年 名称 種別
1998年 電子・イオンビームハンドブック(第3版)(日刊工業新聞社)
担当 15.2節 近接効果とその補正
書籍
2000年 Sub-Half-Micron Lithography for ULSIs
(Cambridge University Press)
担当 4.4節 Proximity effect correction
書籍
2006年 雑誌「発明」 How to 発明 全国発明表彰受賞者に聞く 平成18年度経済産業大臣発明賞受賞 電子線描画装置の近接効果補正技術の発明 インタビュー記事
2007年-2008年 ゑれきてる 連載 技術の樹はどのようにして成長するか 想像的思考、技術革新の現場 第8回 「LSIの未来に立ちはだかる電子の散乱現象 複雑な問題を単純化して実現した近接効果補正」(全7回) インタビュー記事
2010年 電子ビーム加工と最新の動向
「光技術コンタクト Vol.48 2010年 6月号 pp.266-275」
書籍
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