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装置

ニューフレアテクノロジーでは、電子ビームマスク描画装置(EBM)、マスク検査装置、エピタキシャル検査装置の3製品を中心とした
半導体製造装置の開発・製造・販売を行っています。それぞれの装置がどのようなものであるかご紹介しましょう。

  • 電子ビームマスク描画装置
  • マスク検査装置
  • エピタキシャル成長装置
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マスク検査装置
  • 概要
  • キーテクノロジー
  • マスク検査装置

    概要

    マスク検査装置は、EBMで描画されたフォトマスクの欠陥を高速で検査し、半導体の歩留まり向上に貢献する装置です。半導体の微細化に伴い、フォトマスクに描画される回路パターンもよりいっそう細かく複雑なものとなっており、検査装置の重要性は年々、高まっています。当社では2006年よりマスク検査装置事業をスタートさせ、EBMと検査装置を同時にお客様に供給しています。マスク製造の早い段階からEBMと同一のデータを用いて信頼性の高い検査を行えるとともに、機能連携によりシステム化も実現。また、検査光源には波長199nmのレーザーを搭載。マスクに上下から透過光と反射光を同時に照射して検出画像をセンサーに反映させる光学技術を導入し、高感度と検査時間の短縮化を図っています。

  • マスク検査装置

    概要

    高度な光学技術・計測技術
    マスク検査装置では、まず光学的な要素として、ナノ単位の目には見えないほど微細な光源を扱う技術が必要です。高エネルギー光源に対応する耐久性の高いレンズの開発も行います。実画像とCADデータの画像を突き合わせる際には、座標を取るための計測技術も重要となります。さらに、EBM同様に高精度で動くステージも必要になりますし、画像処理のアルゴリズムを制御するソフトウエアも欠かせません。