ページの先頭へ

装置

ニューフレアテクノロジーでは、電子ビームマスク描画装置(EBM)、マスク検査装置、エピタキシャル検査装置の3製品を中心とした
半導体製造装置の開発・製造・販売を行っています。それぞれの装置がどのようなものであるかご紹介しましょう。

  • 電子ビームマスク描画装置
  • マスク検査装置
  • エピタキシャル成長装置
  • 一覧へ戻る
エピタキシャル成長装置
  • 概要
  • キーテクノロジー
  • エピタキシャル成長装置

    概要

    半導体チップをつくるにはまず、シリコンウエハの上に薄い膜を成長させます。「エピタキシャル成長」とは、シリコンウエハに結晶方位が揃った単結晶の薄膜を成長させる技術。そのために用いられるのがエピタキシャル成長装置です。LED、ハイブリッド車・電気自動車用のパワーデバイスといった半導体製品をつくる上でこの装置は欠かせません。当社では1980年から30年以上にわたり、さまざまなエピタキシャル成長装置を製造・販売してきました。その技術を応用して、2013年にはLED向けのGaN-on-Si用MOCVD装置を製品化。続く2014年には、SiCデバイス向け成膜装置を製品化しています。当社の超薄膜形成装置は、生産性をはじめとした総合的な装置の完成度の高さにより、世界中から評価を受けています。

  • エピタキシャル成長装置

    概要

    高均一・高速薄膜結晶成長技術
    当社のエピタキシャル成長装置の場合、約900〜1000rpmという高速で基板を回転させることにより、薄膜を均一に成膜することが可能です。高速に回転させることで供給するガスとの反応が速くなるため、薄膜を速く成長させることにもつながります。「高均一温度制御技術」「高速回転制御技術」「供給ガス制御技術」の3つの要素で、高均一かつ高速成長の薄膜結晶成長を実現しています。