ページの先頭へ

装置

ニューフレアテクノロジーでは、電子ビームマスク描画装置(EBM)、マスク検査装置、エピタキシャル検査装置の3製品を中心とした
半導体製造装置の開発・製造・販売を行っています。それぞれの装置がどのようなものであるかご紹介しましょう。

  • 電子ビームマスク描画装置
  • マスク検査装置
  • エピタキシャル成長装置
  • 一覧へ戻る
電子ビームマスク描画装置
  • 概要
  • キーテクノロジー
  • 電子ビームマスク描画装置

    概要

    電子ビームマスク描画装置(EBM)とは、半導体デバイスの生産工程において、コンピュータ上で設計された半導体素子回路をシリコンウエハ上へ転写する際の原版となる「フォトマスク」を描画する装置です。

    電子ビームによる描画をナノメーター単位で制御しており、例えるならば、当社製品では東京タワーから富士山頂にある1.6mmの的を射抜くほどの高精度を実現。描画速度も、高度220kmで旋回している人工衛星からビームを発射し、約2秒間でオーストラリア大陸を横断するほどの圧倒的なスピードです。EBMはLSIチップの高集積化に伴い、微細化パターン形成のために1970年代後半から実用化され、今ではマスク製造装置の主流になっています。

    当社では1978年に第1号機を開発したのを起点に、最先端デバイス用の回路パターンをフォトマスク上に高速・高精度で描画できる電子光学系を自社で開発。その高い描画性能は世界の主要半導体メーカーで認められ、今では世界シェアN0.1を獲得。先端マスク描画装置市場をほぼ独占しています。

  • 電子ビームマスク描画装置

    キーテクノロジー

    高速・高精度制御技術
    電子ビームマスク描画装置では、電子銃から発生させた電子線を用いてフォトマスク上に回路パターンを形成します。複雑な回路パターンを形成するために、フォトマスク上ではナノメートルオーダーの位置精度が要求されます。高速・高精度の電気回路技術と電気制御技術があって、はじめて高スループットかつ高品質の半導体回路パターンの形成が可能となります。

    超精密機械制御技術
    電子ビームマスク描画装置では、パターンの位置精度に悪影響を及ぼさないよう、機械振動の振動成分を抑制する必要があります。当社は最高レベルの超精密ステージと、最適な機械制御技術を開発・実用化し、比較的低い周波数の振動をサブナノメートルオーダーで抑制することを可能としました。レーザー干渉計の信号を電子ビームの偏向制御機構にフィードバックして制御するビームトラッキング技術を開発して実用化しています。

    大容量情報処理技術
    当社では、テラバイト級の大容量データを、最先端のプロセッサを用いて並列処理し、高速に演算する技術を開発・実用化しています。回路パターンを表現するために必要な図形データは、最新のHDD容量に匹敵するようなデータ量となっていますが、それを1つの間違いもなく順番に電子ビームの偏向制御機構に渡す処理を数時間で終わらせることが可能となっています。

当社の主力装置である電子ビームマスク描画装置は最小線幅16nmのパターンを加工するフォトマスクを描画します。その精度は例えるなら東京タワーから富士山頂にある1.6mmの的を射抜くほどの高精度です。