HT2000FDは、高品質なエピタキシャル膜を低コストで形成することができ、パワーデバイスの高性能化とコスト低減に貢献致します。 垂直ガスフローとウェーハ高速回転により、数µmから150µｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置です。
170µmの超厚膜において8.5µm/分の高速成長と±1％以下の優れた均一性の両立を達成しました。
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