HT2000FD 枚葉式厚膜エピタキシャル成長装置

HT2000FD 枚葉式厚膜エピタキシャル成長装置

HT2000FDは、高品質なエピタキシャル膜を低コストで形成することができ、パワーデバイスの高性能化とコスト低減に貢献致します。 垂直ガスフローとウェーハ高速回転により、数µmから150µm以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置です。

超厚膜の高速成長を実現

170µmの超厚膜において8.5µm/分の高速成長と±1%以下の優れた均一性の両立を達成しました。

超圧膜の成長速度

特長

  • 高生産性

    • 膜厚150µm以上の連続成長が可能
    • 8µm/min.以上の高速成長を実現
  • 省エネ

    • 120kVA以下の低消費電力
  • 高利用効率

    • 20~30%の高いソースガス利用効率
    • 少ない副生成物
  • 高品質

    • 150µmの厚膜で
    • ±1.5%以下の優れた膜厚均一性
    • ±3.0%以下の優れた比抵抗均一性
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