キーテクノロジー

ナノからテラへ

電子ビームマスク描画装置は物理学、電気・電子工学、機械工学、制御工学、情報処理工学、計測工学、化学など、多岐にわたる技術を結集したシステム装置です。電子ビームマスク描画装置はさまざまな最先端技術を融合した複合技術の集大成であるといえます。

“ナノ(10億分の1)”で代表される微細化技術から、“テラ(1兆)”に達する膨大なデータ処理技術まで。チャレンジ精神を大切に、「未来の架け橋」という合言葉を原動力として、ニューフレアテクノロジーは、私たちの夢を実現し、半導体産業と社会、人類の発展に貢献します。

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